随着芯片制造商不断加速引入先进的制程技术，荷兰公司推出的高数值孔径（High-NA）极紫外光刻（EUV）系统的生产能力也在稳步提升。最新消息显示，全球已有四家客户正在使用10台High-NA EUV光刻机，其中还有3台正在进行发货和安装。每台光刻机的售价高达4亿美元（约合27亿元人民币）。英特尔已将High-NA EUV技术应用于其酷睿Ultra系列3处理器（代号Panther Lake）的批量生产，这款处理器采用了Intel 18A工艺，成为首个实现量产的逻辑产品。High-NA EUV（EXE）系统的累计曝光晶圆数量已超过135万片，并且，经过认证的EXE:5200B系统在验收测试中取得了每小时135片晶圆的吞吐量，显示了其满足高产需求的能力。未来几代High-NA EUV的产能路线图也已对外公开，预计到本十年末，在AB模式下，EXE:5200B的吞吐量将达到135 WPH，EXE:5200C可达160 WPH，EXE:5200D达到175 WPH，而EXE:5400E预计将实现180 WPH。在AA模式下，吞吐量则将超过210 WPH。展望未来，荷兰生产商还计划推出产能更高的EXE:5600，目标吞吐量超过250 WPH，但具体的量产时间尚未公布。同时，荷兰公司还强调了High-NA EUV光刻技术在内存制造方面的巨大潜力。其先进的成像技术可支持最多五个未来的2D DRAM工艺节点，增强了在内存扩展中的作用。报告中指出，与0.33-NA EUV平台相比，0.55-NA平台具有显著优势，后者可能需要复杂且昂贵的多重曝光工艺。更高的分辨率使得单次曝光能够实现更多层的图案化，从而降低工艺复杂度、缺陷率和周期时间，最终有可能降低整体制造成本。SK海力士计划在2025年下半年部署第一台用于量产开发的High-NA EUV系统，标志着其向下一代产品量产迈出了重要一步。此外，报告显示，该存储巨头已在其DRAM生产工厂M16安装了EXE:5200B光刻机。与此同时，三星尚未披露其用于存储器的High-NA EUV系统的时间表，但计划在其1nm逻辑工艺中（预计于2030年左右实现量产）使用该技术。
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